產(chǎn)品詳情
美國(guó)JC Nabity Lithography Systems公司一直致力于基于商品SEM、STEM或FIB的電子束光刻裝置的研制，其研發(fā)的EBL電子束曝光系統(tǒng)（Nanometer Pattern Generation System納米圖形發(fā)生系統(tǒng)，簡(jiǎn)稱NPGS）技術(shù)優(yōu)異，世界各地越來越多的用戶包括大學(xué)、科研機(jī)構(gòu)及政府實(shí)驗(yàn)室在使用NPGS進(jìn)行EBL研究工作.
基于SEM/FIB改裝的NPGS V9.1電子束曝光系統(tǒng)
1)NPGS以既有的SEM、STEM或FIB等為基礎(chǔ)，外加電子束控制系統(tǒng)，透過電腦界面控制電鏡中電子束的矢量掃描，以直接刻寫圖形。
2)NPGS系統(tǒng)兼具原SEM的觀測(cè)功能。不影響SEM本身功能。
3)功能強(qiáng)大、操作簡(jiǎn)便、使用靈活。
4)NPGS和當(dāng)今主流的SEM或FIB等均可配套。
NPGS V9.0是一個(gè)可以控制掃描電鏡電子束的軟件程序。基于電鏡的電子束曝光簡(jiǎn)單分為兩部分：刻寫設(shè)計(jì)和圖形運(yùn)行。刻寫設(shè)計(jì)是通過NPGS隨機(jī)提供的DesignCAD程序來做。此CAD程序已經(jīng)過修改，增加了用于電子束曝光的命令。圖形運(yùn)行包括設(shè)定參數(shù)，用于NPGS計(jì)算圖形上每個(gè)點(diǎn)的位置以及曝光時(shí)間。
產(chǎn)品外觀
